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去离子水清洗

CM-AQUA 是用于 CMOS 图像传感器的全自动去离子水清洗系统。其高速系统配备加压去离子水清洗和离心干燥系统，可去除基板上大于 1µm 的异物。 CM-AQUA 可与其他 CIS 系统联机。

CM-AQUA

全自动去离子清洁系统

尺寸 宽 x 深 x 高 (不包括进料/卸料升降台)
1,445 x 1,728 x 2,248 mm

特色

  • 高效去离子清洁
    • 高效的清洁设计
    • 可清洁小至 1 μm 的颗粒
    • 可一次处理多达 8 个基板
  • 高速离心干燥
    • 以最高 1,200 rpm 的转速高速旋转
  • 超洁净内部环境
  • 全自动操作
  • 可联机功能

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